臭氧适用于哪些ALD材料？
2026-07-27 15:58
臭氧适用于哪些ALD材料？
目前臭氧广泛应用于多种氧化物薄膜沉积，包括：
薄膜材料 | 常见用途 |
Al₂O₃ | 钝化层、阻挡层、绝缘层 |
HfO₂ | High-k栅介质 |
ZrO₂ | 高介电材料 |
TiO₂ | 光催化、光学薄膜 |
SnO₂ | 透明导电膜、气体传感器 |
ZnO | TCO透明导电膜 |
In₂O₃ | 显示器件 |
IGZO | TFT显示器 |
Y₂O₃ | 光电子器件 |
SiO₂（部分工艺） | 绝缘层 |
对于这些材料，臭氧通常能够获得比水氧化更优的膜质量。
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